15MΩ.cm 用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件產品、單晶硅、多晶硅清洗需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。 半導體封裝超純水設備系統,半導體清洗設備,半導體純水、超純水 半導體清洗、LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。 半導體封裝超純水設備系統,半導體清洗設備,半導體純水、超純水設備的工藝大致分成以下三種:    1、采用離子交換樹脂制備電子工業超純水的傳統水處理方式,其基本工藝流程為:原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復床)→純水箱→純水泵→保安過濾器→用水點  2、采用反滲透設備與離子交換設備進行組合制備電子工業超純水的方式">  
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